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Soldering to a single atomic layer

机译:焊接到单个原子层

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摘要

The standard technique to make electrical contact to nanostructures is electron beam lithography. This method has several drawbacks including complexity, cost, and sample contamination. We present a simple technique to cleanly solder submicron sized, Ohmic contacts to nanostructures. To demonstrate, we contact graphene, a single atomic layer of carbon, and investigate low- and high-bias electronic transport. We set lower bounds on the current carrying capacity of graphene. A simple model allows us to obtain device characteristics such as mobility, minimum conductance, and contact resistance.
机译:与纳米结构进行电接触的标准技术是电子束光刻。该方法具有多个缺点,包括复杂性,成本和样品污染。我们提出了一种简单的技术,将亚微米尺寸的Ohmic触点干净地焊接到纳米结构上。为了证明这一点,我们联系了石墨烯(碳的单原子层),并研究了低偏压和高偏压电子传输。我们为石墨烯的当前载流量设置了下限。一个简单的模型使我们可以获得器件的特性,例如迁移率,最小电导和接触电阻。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2007年第19期|p.193512.1-193512.3|共3页
  • 作者

    Qaglar OE. Girit; A. Zettl;

  • 作者单位

    Department of Physics, University of California, Berkeley, California 94720, USA;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 应用物理学;计量学;
  • 关键词

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