机译:通过应变工程增强n沟道抗电离金属氧化物半导体晶体管的性能
机译:(111)衬底上<110>沟道n沟道金属氧化物半导体场效应晶体管中的局部应变提高了性能
机译:应变效应和表面取向对弹道锗n沟道金属氧化物半导体场效应晶体管驱动电流增强的影响
机译:通过分子碳离子注入和激光退火形成的碳掺杂源极/漏极增强n沟道金属氧化物半导体场效应晶体管性能的分析方法
机译:具有增强的硅碳源极/漏极的应变N沟道冲击电离MOS(I-MOS)晶体管,可提高性能
机译:通过接口工程提高有机场效应晶体管的电性能
机译:使用自对准和激光干涉光刻技术制造的多栅极ZnO金属氧化物半导体场效应晶体管的性能增强
机译:使用自对准和激光干涉光刻技术制造的多栅极ZnO金属氧化物半导体场效应晶体管的性能增强
机译:在蓝宝石上的500 a薄膜硅中制造具有0.2微米栅极长度的n沟道金属氧化物半导体场效应晶体管。 (重新公布新的可用性信息)