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Reversible Charge Injection In Antiferroelectric Thin Films

机译:反铁电薄膜中的可逆电荷注入

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摘要

High-energy storage antiferroelectric capacitors operated in a high speed require the quick release of stored charges after the removal of the electrical field accompanying ferroelectric-to-antiferroelectric phase transition. However, the phase-transition time can vary from a few nanoseconds to milliseconds due to the reversible charge injection into the film to temporally stabilize the high-field ferroelectric phase. The consequent theoretical modeling discloses the nearly Ohmic contact of an antiferroelectric Au/Cr/Pb(Zr_(0.95)Ti_(0.05))O_3/Pt thin-film capacitor for the charge injection unlike the Schottky emission of a typical ferroelectric capacitor.
机译:高速运行的高能存储反铁电电容器需要在去除伴随铁电到反铁电相变的电场后快速释放存储的电荷。然而,由于可逆电荷注入膜中以暂时稳定高场铁电相,因此相变时间可以在几纳秒至毫秒之间变化。随后的理论模型揭示了反铁电Au / Cr / Pb(Zr_(0.95)Ti_(0.05))O_3 / Pt薄膜电容器的几乎欧姆接触用于电荷注入,这与典型的铁电电容器的肖特基发射不同。

著录项

  • 来源
    《Applied Physicsletters》 |2008年第21期|94-96|共3页
  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 03:20:52

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