机译:使用硅化and和硅化铂的金属结源极/漏极制造的多晶硅肖特基势垒薄膜晶体管的特性
Department of Electronic Materials Engineering, Kwangwoon University, Seoul 447-1, Republic of Korea;
Department of Electronic Materials Engineering, Kwangwoon University, Seoul 447-1, Republic of Korea;
Department of Semiconductor Science and Technology, Chonbuk National University, Jeonju 561-756, Republic of Korea;
U-terminal Research Team, Electronics and Telecommunication Research Institute (ETRI), Daejeon 305-350, Republic of Korea;
机译:具有多晶硅通道和硅化金属结的肖特基势垒N型薄膜晶体管
机译:沟道长度和宽度为0.1μm的n型肖特基势垒薄膜晶体管的制造以及硅化源极/漏极
机译:硅化Source /漏源和硅纳米线沟道的肖特基势垒NMOS晶体管演示
机译:十米级肖特基势垒金属氧化物半导体场效应晶体管的快速热退火技术形成Formation硅化源漏结。
机译:红外焦平面阵列用硅化铂/ p型硅和硅化铱/ p型硅肖特基势垒光电探测器的制造,微观结构表征和内部光响应
机译:源/漏电极对氧化硅锡薄膜晶体管电性能的影响
机译:肖特基势垒薄膜晶体管(SBTFT),具有硅化源/漏极和现场诱导的排水延伸