机译:La取代对外延生长BiFeO_3薄膜铁电畴结构和多铁性的影响
Process Development Team, System LSI Division, Samsung Electronics, San #24 Nongseo-Dong, Giheung-Gu, Yongin-City 446-711, Korea;
Department of Applied Physics, College of Applied Science, Kyung Hee University, 1732 Deogyeong-daero, Giheung-Gu, Yongin-City 446-701, Korea;
机译:La取代对外延生长BiFeO3薄膜铁电畴结构和多铁性的影响
机译:具有工程铁电畴的外延多铁性BiFeO_3薄膜的磁性结构
机译:脉冲激光沉积外延生长的多铁锰掺杂BiFeO_3薄膜的厚度依赖性结构和电性能
机译:增长机制和铁电域结构研究在外延BIFEO_3薄膜上生长(LA_(0.3)SR_(0.7))(AL_(0.65)TA_(0.35))O_3
机译:研究铁电畴结构和动力学对多畴外延钛酸钡薄膜的电光性能的影响。
机译:界面对外延多铁性BiFeO3超薄膜的结构和新物理性能的影响
机译:压电器件应用中BiFeO_3外延膜铁电畴结构的控制
机译:LaalO(sub 3)衬底上外延生长211 Y(sub 2)O(sub 3):Eu薄膜的结构与发光性质的关系