机译:碳化硅C端(0001)面上外延石墨烯中的自旋输运
Physics of Nanodevices, Zernike Institute for Advanced Materials, University of Groningen, Nijenborgh 4,9747 AG Groningen, The Netherlands;
Department of Physics, Chemistry and Biology (IFM), Linkoeping University, S-581 83 Linkoeping, Sweden;
Physics of Nanodevices, Zernike Institute for Advanced Materials, University of Groningen, Nijenborgh 4,9747 AG Groningen, The Netherlands;
机译:C端接的4H-SiC(0001′)表面合成的外延石墨烯层的结构缺陷-透射电子显微镜和密度泛函理论研究
机译:C端接的4H-SiC(0001)表面透射电子显微镜和密度泛函理论研究合成的外延石墨烯层的结构缺陷
机译:碳化硅上双层外延石墨烯上锌(II)-酞菁四磺酸的扫描隧道显微镜及密度泛函理论研究(0001)
机译:通过限制控制升华的碳化硅(0001)衬底上的外延石墨烯生长
机译:在6H-碳化硅(0001)上测量石墨烯中电子自旋输运。
机译:在碳化硅上的多层外延石墨烯:用环境污染物掺入海水样品的稳定工作电极
机译:碳化硅半导体C封端面上所生长的外延石墨烯的纳米级特性