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机译:带有LPCVD沉积的SiN和PECVD沉积的SiCOH低k钝化的AlGaN / GaN HEMT
Henan Normal Univ, Coll Elect & Elect Engn, 46 East Construct Rd, Xinxiang, Peoples R China;
Fudan Univ, Sch Microelect, State Key Lab ASIC & Syst, 220 Han Dan Rd, Shanghai, Peoples R China;
机译:PE-CVD和T-CVD法在SiC衬底上沉积AlGaN / GaN HEMT的SiN钝化膜的比较
机译:PECVD SiN钝化对AlGaN / GaN HEMT中偏置相关的等效电路元素的综合研究
机译:PEGaN SiN钝化在AlGaN / GaN HEMT中增加高频通道噪声的机理
机译:LPCVD和PECVD-SIN_X钝化的Algan / GaN Hemts的比较研究
机译:GaN-SiC界面处具有GaN微坑的AlGaN / GaN HEMT中的散热分析
机译:氧等离子体处理对采用PECVD SiO2栅极绝缘体的原位SiN / AlGaN / GaN MOSHEMT的影响
机译:AlGaN / GaN HEMT的等离子体诊断和装置性质钝化等离子体增强化学气相沉积的SIN
机译:改善GaN / alGaN HEmT性能和可靠性的钝化技术发展