机译:Si(111)衬底上基于284-300 nm的基于InAlGaN的第四季深紫外发光二极管
RIKEN (The Institute of Physical and Chemical Research), Wako, Saitama 351-0198, Japan JST. CREST, Kawaguchi, Saitama 332-0012, Japan;
RIKEN (The Institute of Physical and Chemical Research), Wako, Saitama 351-0198, Japan JST. CREST, Kawaguchi, Saitama 332-0012, Japan;
机译:使用外延横向过度生长AIN模板在Si基板上实现基于256-278 nm AIGaN的深紫外发光二极管
机译:高效240-260nm深紫外线激光器和Aigan衬底的发光二极管的物理学
机译:在理想脉冲选择性和非选择性激发条件下通过光致发光光谱研究的AIN基材上生长的基于265nm的深紫外发光二极管
机译:通过抑制电子溢流实现340nm波段高功率inaigan的紫外发光二极管
机译:深度紫外发光二极管的偏振工程
机译:纳米粒子掺杂的聚二甲基硅氧烷流体可增强基于AlGaN的深紫外发光二极管的光学性能
机译:AlGaN深层紫外线发光二极管,具有局部表面等离子体的40nM Al纳米粒子的高密度阵列共振