机译:2至23 GHz BiFET低噪声放大器设计流程以及0.25μmSiGe BiCMOS技术的实现
IXL Laboratory University of Bordeaux 1 Talence France;
IXL Laboratory University of Bordeaux 1 Talence France;
ST Microelectronics Minatec Grenoble 38000 France;
IXL Laboratory University of Bordeaux 1 Talence France;
IXL Laboratory University of Bordeaux 1 Talence France;
IXL Laboratory University of Bordeaux 1 Talence France;
IXL Laboratory University of Bordeaux 1 Talence France;
ST Microelectronics Minatec Grenoble 38000 France;
BiFET; LNA; Cascade; Design flow;
机译:2至23 GHz BiFET低噪声放大器设计流程以及0.25μmSiGe BiCMOS技术的实现
机译:采用0.25μmSiGe BiCMOS技术的1-12GHz可变增益低噪声放大器MMIC
机译:采用0.25μmSiGe BICMOS技术的具有有源巴伦的20GHz低噪声放大器
机译:一个4mA,0.25 SiGe,23GHz BiFET低噪声放大器
机译:低功耗低噪声CMOS放大器的一些设计技术,具有针对GHz频率无线应用的噪声优化。
机译:用于软件无线电的连续可调低噪声放大器的设计与分析
机译:基带超低噪声SiGe:C BiCMOS 0.25 µm放大器及其在片上相位噪声测量电路中的应用