机译:气溶胶辅助化学气相沉积法制备的氧化钇稳定氧化锆薄膜的前体分解,微观结构和孔隙率
Nonmetallic Inorganic Materials ETH Zuerich, Wolfgang-Pauli-Str. 10 8093 Zurich, Switzerland;
Nonmetallic Inorganic Materials ETH Zuerich, Wolfgang-Pauli-Str. 10 8093 Zurich, Switzerland;
Nonmetallic Inorganic Materials ETH Zuerich, Wolfgang-Pauli-Str. 10 8093 Zurich, Switzerland;
Nonmetallic Inorganic Materials ETH Zuerich, Wolfgang-Pauli-Str. 10 8093 Zurich, Switzerland,International Institute for Carbon Neutral Energy Research (WPI-I2CNER) Kyushu University 744 Moto-oka, Nishi-ku, Fukuoka 819-0395, Japan;
机译:金属有机前体的脉冲化学气相沉积法制备的氧化钇稳定的固态氧化锆膜
机译:以NIO为氧源的电化学气相沉积法制得的氧化稳定氧化锆薄膜的生长速率-II-NIO基质孔隙率的影响
机译:以NIO为氧源的电化学气相沉积法制得的氧化稳定氧化锆薄膜的生长速率-II-NIO基质孔隙率的影响
机译:气溶胶辅助化学气相沉积法制备氧化钇稳定的薄膜电解质
机译:氧化钇稳定的氧化锆薄膜的物理气相沉积和金属有机化学气相沉积。
机译:化学气相沉积法制备纳米晶TiB2薄膜的微观结构
机译:通过化学气相沉积/电化学气相沉积在陶瓷膜中孔径变窄并形成氧化钇稳定的超薄氧化锆层