HfO2 film grating fast atom beam etching;
机译:通过快速原子束蚀刻制造的独立式圆形GaN光栅
机译:利用RCWA优化锯齿光栅及其在倾斜硅衬底上的快速原子束刻蚀工艺。
机译:利用RCWA优化锯齿光栅及其在倾斜硅衬底上的快速原子束刻蚀工艺。
机译:通过离子束刻蚀制造的独立式HfO2谐振光栅
机译:高能(约100s eV)氧原子中性束对聚合物膜的各向异性刻蚀
机译:在独立的HfO2光栅上生长的III型氮化物光栅
机译:通过快速原子束蚀刻制造的独立式HfO2光栅
机译:H2sO4-H2O2-H2O体系中优先化学蚀刻制备Gaas衍射光栅的轮廓和凹槽深度控制。