Silicon nanowires Reflectivity Light-beam-induced-current Diffusion length;
机译:刻蚀时间对刻蚀多晶硅晶片上硅纳米线阵列的形貌,光学和结构性能的影响
机译:通过化学蚀刻形态学级硅纳米线阵列:纳米级和宏观的工程光学性质
机译:酸蒸汽蚀刻对扁平硅和硅纳米线阵列的形态和光电性能的影响:对比研究
机译:用金属辅助化学蚀刻制备的硅纳米线阵列本身的光学性质
机译:在硅纳米线超晶格中调制光学和电子性质
机译:氟化铵金属辅助化学刻蚀制备硅纳米线阵列的结构和光学性质
机译:蚀刻时间对硅纳米线的形态,光学和电子性质的影响