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廖家轩; 夏立芳;
哈尔滨工业大学材料科学与工程学院;
铝合金; 等离子体基离子注入; 高斯分布; 梯度层; AlN/TiN层; 结构; 氮化铝; 氮化钛; 表面改性;
机译:用等离子体源离子注入XPS研究铝合金中AlN的形成
机译:氮/钛/碳等离子体离子注入对2024铝合金改性层的结构和摩擦学性能
机译:金属等离子体浸没离子注入和沉积制备的Ti-O / TiN梯度膜的组成,结构,力学性能和血小板粘附性的研究
机译:等离子体基离子注入在2024铝合金上制备的成分和结构梯度层
机译:通过等离子体注入氧气和等离子体浸没离子注入进行分离,以形成绝缘体上硅。
机译:Al-AlN-TiN多层膜中锌共混AlN层的生长和应力诱导转变
机译:低压金属有机化学气相沉积法研究基面蓝宝石和siC衬底上alN和GaN层初始生长的微观结构比较
机译:用于半导体器件的TiN层结构,其形成方法,具有TiN层结构的半导体器件及其制造方法
机译:在半导体结构中的金属硅化物层的顶部上形成TiN层的方法以及所形成的结构
机译:液基等离子体层构建装置,用于液基等离子体的电极以及使用液基等离子体的方法的层形成
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