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张海波; 冯仁剑; 张丹; Katsumi Ura;
西安交通大学电子科学与技术系;
大阪大学;
电子照射; 集成电路; 绝缘膜; 绝缘体; 二次电子; 轨迹; 数值模拟; 芯片; 电子束检测; 故障诊断; 返回特性;
机译:模拟绝缘膜厚度对阴极表面上的影响低电流气体排放中的有效二次电子发射产量
机译:由于离子的冲击,绝缘子的二次电子发射特性随时间的变化
机译:离子冲击绝缘子二次电子发射特性的时间变化
机译:真空中电荷注入和二次电子发射引起的绝缘子表面带电分析
机译:绝缘子二次电子发射性能的测量。
机译:磁控溅射沉积非晶碳膜的基体温度相关的微观结构和电子诱导的二次电子发射特性
机译:来自嵌套微射流结构表面的二次电子发射和多移膜的特性
机译:金属表面的二次电子发射受慢速带电离子轰击
机译:尽管绝缘膜测量设备具有电子发射特性或带电特性
机译:二次电子发射膜的制造以及二次电子发射膜
机译:用于直接写入电子光刻设备的微电子电子发射器件,具有绝缘层,该绝缘层的具有形成纳米源的开口以发射二次电子,其中开口的数量小于微电子源的数量。
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