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王辉; 金庆原;
复旦大学三束材料改性国家重点实验室;
射频磁控溅射; 氩气压; 多层膜; 镀膜;
机译:氩中性束能量对中性粒子束辅助溅射生长非晶碳薄膜结构性能的影响
机译:氩等离子体中加氢对射频溅射沉积TiO_(2-x)薄膜结构性能的影响
机译:气压对高频磁控溅射法沉积的非晶碳膜结构和光学常数的影响
机译:高频反应溅射制备铁基磁性氧化物薄膜的磁和介电性能
机译:反应堆磁控溅射沉积p型缺铜Cu Cr0.95-xMg0.05 O2薄膜的光电性能
机译:氩气压力对直接沉积TiO2薄膜结构和光催化性能的影响磁控溅射
机译:溅射Cu / Cr多层膜的微观结构和力学性能
机译:使用氩溅射法通过薄膜沉积来改变表面性能
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