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罗童; 陈强;
北京印刷学院 等离子体物理与材料实验室,北京 102600;
等离子体刻蚀; HfO2; ECR; 形貌;
机译:ECR-ALD沉积HfO2 / La2O3 / HfO2薄膜的电学特性
机译:通过无掩模ECR辅助微波等离子体刻蚀制备高纵横比金刚石纳米针阵列
机译:X射线光电子谱法研究薄膜(HFO2)_(Al2O3)/ Si的薄膜(HFO2)_(Al2O3)/ Si的研究
机译:SF / sub 6 / O / sub 2 /等离子体中的添加对ECR等离子体刻蚀机中聚酰亚胺蚀刻的影响
机译:复杂氧化物薄膜的基于卤素的等离子体刻蚀动力学模型及其在预测特征轮廓模拟中的应用。
机译:溅射沉积氟化钇薄膜的结构和氟等离子体刻蚀行为
机译:远程等离子体原子层沉积生长HfO2薄膜及其HfO2 / Ge界面的性能
机译:ECR微波等离子体沉积类金刚石薄膜
机译:电子回旋共振(ECR)等离子体刻蚀过程和ECR等离子体刻蚀装置
机译:金属薄膜的等离子体刻蚀装置和金属薄膜的等离子体刻蚀方法
机译:包含形式为游离的Tadalaheala的薄膜形式的医学形式crecreating crecreing creating crecreingcreating crereaing crereaing vinyl pyrrolidone的基础聚合物,基于Islahi Isauro。
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