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MgO二次电子发射功能薄膜的制备方法

         

摘要

综述了具有二次电子发射功能的MgO薄膜的主要制备方法,包括电子束蒸发、磁控溅射、溶胶-凝胶、分子束外延和脉冲激光沉积法.阐述了各种方法在制备MgO薄膜方面的优点和不足,讨论了不同的制备方法对MgO薄膜结品取向、表面形貌等性质的影响.分析表明,利用磁控溅射法制备MgO薄膜可获得较高的二次电子发射率.

著录项

  • 来源
    《真空与低温》 |2009年第4期|187-192|共6页
  • 作者单位

    兰州物理研究所,表面工程技术国家级重点实验室,甘肃,兰州,730000;

    兰州物理研究所,表面工程技术国家级重点实验室,甘肃,兰州,730000;

    兰州物理研究所,表面工程技术国家级重点实验室,甘肃,兰州,730000;

    兰州物理研究所,表面工程技术国家级重点实验室,甘肃,兰州,730000;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 薄膜的性质;
  • 关键词

    MgO薄膜; 二次电子; 磁控溅射; 结晶取向;

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