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电化学选择性刻蚀Cu/Ni牺牲层技术的研究

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摘要

牺牲层腐蚀技术结合MEMS技术是制作三维可动微机构的一个重要加工手段.采用电位控制的电化学释放牺牲层技术,对2种不同刻蚀液下的Cu/Ni叠层结构分别进行了电化学腐蚀,并测量了其伏安特性,结果表明:电位控制的电化学腐蚀能很好地进行有选择性刻蚀Cu/Ni牺牲层.

著录项

来源
《传感器与微系统》 |2005年第4期|86-88|共3页
作者
李永海; 丁桂甫; 张永华; 曹莹;
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作者单位

上海交通大学,微纳米技术研究院,上海,200030;

上海交通大学,微纳米技术研究院,上海,200030;

上海交通大学,微纳米技术研究院,上海,200030;

上海交通大学,微纳米技术研究院,上海,200030;

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正文语种 chi
中图分类制造工艺;
关键词
电化学腐蚀; 选择性刻蚀; 牺牲层技术; 电位控制;

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