薄膜应力造成基片弯曲变形的力学分析

摘要

随着科学技术不断研发,我国的各个领域都进行了很大的改革与创新.国内的相关学者加大了对薄膜应力的研究,使用溅镀或蒸镀的方法将薄膜材料附着在基片表面上,能够促进微光机电系统和大型积体电路的制程.本文通过对平板力学的理论结构进行研究,对薄膜应力引起基片弯曲变形的力学行为和数学结构.利用电脑软件Abaqus建立模型提供数值解,提高数学模型的正确性.