用高分辨率双晶X射线荧光法进行材料的状态研究

摘要

一、前言近年来,随着各种新型功能材料的研制,对新检测技术开发的要求愈加强烈。这种检测技术在不破坏样品的前提下,不但能测定出材料中成分的含量,而且要求能够知道其分布特征及存在状态。为了适应这种新型材料科学发展的需要。