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曹阳; 李爱珍;
不详;
锑化镓; 化学刻蚀剂; 半导体刻蚀;
机译:在等离子化学刻蚀工艺中研究气体流量对刻蚀层厚度的影响以及砷化镓各向异性场粗糙度的影响
机译:通过各向异性化学刻蚀,阳极刻蚀和阳极氧化制备高纵横比的多孔砷化镓及其结构
机译:微晶锑化镓GaSb到纳米晶氮化镓GaN的氨解转化:热力学与拓扑化学
机译:磷化镓和铟镓锑化锑半导体材料对多结太阳能电池光子吸收的影响
机译:用于溴化镓分子束外延的表观准备就绪的溴离子束辅助刻蚀的锑化镓镓衬底的开发。
机译:镓环境对掺Er3 +的镓锑锑硫玻璃中红外发射的影响
机译:三氧化二硼和氯对砷化镓和砷化铝镓的反应离子刻蚀
机译:砷化镓,磷化铟,砷化铟和锑化镓中电子和空穴高能迁移的理论研究。
机译:砷化镓锑化镓(GaAsSb)/磷化铟(InP)异质结双极晶体管(HBT)具有降低的隧穿概率
机译:表皮砷化镓气相生长过程中砷化镓的原位刻蚀
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