铁钴合金磁屏蔽薄膜的性能表征与工艺控制

摘要

利用电化学沉积法制备了铁钴合金薄膜试样,研究了离子浓度比、pH值、温度、电流密度等工艺条件对薄膜成分含量的影响,并对薄膜的物相组成、表面形貌、磁性能进行了表征。说明了特定工艺参数下铁钴合金薄膜的结构、性能特点,结果可供制作适用于不同场合的铁钴合金薄膜时参考。