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直流反应磁控溅射TiN薄膜表面形貌研究

         

摘要

研究溅射电流对TiN薄膜表面形貌的影响.结果表明:当其他参数不变的情况下,薄膜表面粗糙度(RMS)随电流的增大先变大后变小.在电流达到3A时,粗糙度达到最小值.

著录项

  • 来源
    《赤子》 |2012年第2期|179|共1页
  • 作者

    李丽; 吴卫; 杨翠丽;

  • 作者单位

    齐齐哈尔工程学院机电系,黑龙江齐齐哈尔151006;

    西华大学材料科学与工程学院,四川成都610039;

    齐齐哈尔工程学院机电系,黑龙江齐齐哈尔151006;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类
  • 关键词

    TiN薄膜; 反应磁控溅射; AFM; RMS;

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