冷喷银涂层在多晶硅生产中的应用研究

摘要

主要介绍冷喷银涂层在高纯多晶硅低消耗生产技术中的应用,阐述多晶硅生产用西门子法钟罩式化学气相沉积反应器的能量损失和银涂层节能机理,分析冷喷银涂层对红外反射、反应器能量消耗及多晶硅生长的影响,总结冷喷银涂层在应用中存在的问题.以24对棒多晶硅化学气相沉积反应器为例,当其内壁含有冷喷银涂层时,与非喷涂反应器相比,可至少降低5％的能量消耗,最高增加11.2％的多晶硅产量.