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张正模;
无;
磁控管溅射; PVD; 超晶格; 涂层; 金属;
机译:无弧深振荡磁控溅射与脉冲直流磁控溅射相结合沉积的CrN / TiN超晶格涂层的力学和摩擦学性能
机译:非平衡磁控溅射沉积TiN / NbN超晶格硬质涂层
机译:大功率脉冲磁控溅射和定向阴极电弧/不平衡磁控管组合技术沉积的氮化铬基涂层的组织和力学性能比较
机译:PVD涂层专为冷锻工艺而设计 - 通过组合弧/ UBM沉积沉积超晶格结构化硬涂层的工业应用
机译:溅射沉积的氮化物和氧化物超晶格薄膜的结构,力学性能和热性能
机译:硅浓度对使用阴极弧蒸发沉积的Al-Cr-Si-N涂层性能的影响
机译:反应磁控溅射沉积锡/ CRN超晶格硬涂层的性质
机译:用于热电应用的半导体超晶格的溅射沉积
机译:通过将两个彼此相邻排列的管形磁控管沉积在一个涂层室中,通过磁控管溅射法在混合室或合金层上涂覆基板,涂层室的外表面包括可溅射的靶材
机译:技术领域[0001]本发明涉及一种用于制造层状超晶格材料的方法和包括该层状超晶格材料的电子器件的制造方法(制造层状超晶格材料和制造包括相同层的电子器件的方法)
机译:-通过高速脉冲直流磁控管溅射源沉积多晶硅和高功能薄膜涂层的溅射装置
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