机译:大功率脉冲磁控溅射和定向阴极电弧/不平衡磁控管组合技术沉积的氮化铬基涂层的组织和力学性能比较
Materials Research Institute, Sheffield Hallam University, Howard St, Sheffield, S1 1WB, UK;
physical vapour deposition (PVD); ion bombardment; transmission electron microscopy (TEM); tribology;
机译:高功率脉冲磁控溅射和不平衡磁控溅射技术相结合产生的多层氮化铬/氮化铌涂层的缺陷生长
机译:高功率脉冲磁控溅射/不平衡磁控溅射技术沉积纳米多层CrAlYN / CrN涂层的氧化行为
机译:高功率脉冲磁控溅射/不平衡磁控溅射技术沉积的CrAlYN / CrN超晶格涂层
机译:高功率脉冲磁控溅射蚀刻不平衡磁控溅射沉积(HIPIMS / UBM)工艺沉积的工业化生产耐腐蚀CrN / NbN涂层
机译:研究ha和铬的添加对沉积在镍基高温合金上的直流磁控溅射β-镍-铝粘结涂层的微观结构和短期氧化性能的影响。
机译:磁控溅射沉积非晶碳膜的基体温度相关的微观结构和电子诱导的二次电子发射特性
机译:高功率脉冲磁控溅射和不平衡磁控溅射技术相结合产生的多层氮化铬/氮化铌涂层的缺陷生长