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马丁;
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离子轰击; 氢化碳-氮; 热处理; PECVD; 非晶; 薄膜;
机译:从四甲基二硅氮烷源进行远程氢氮等离子体化学气相沉积。第1部分。沉积非晶氢化碳氮化硅薄膜的过程,结构和表面形态的机理
机译:氮等离子体余辉对激光烧蚀沉积非晶氮化碳薄膜的影响
机译:沉积温度对PECVD沉积a-Si:H薄膜非晶结构的影响
机译:PECVD沉积的非晶氢化碳膜:膜生长过程中和等离子体表面处理过程中的氮掺入
机译:氢在PECVD沉积的氮化硅薄膜中的重新分布。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:使用直流等离子体增强化学气相沉积(DC-PECVD)技术沉积的氢化非晶碳(a-C:H)薄膜的结构和光学性质
机译:常规铬薄膜,非晶光亮铬沉积(aBCD)薄膜,N +注入aBCD薄膜的表征研究和使用丙酸作为有机添加剂制备aBCD薄膜
机译:等离子体增强化学气相沉积(PECVD)沉积共形非晶碳膜的方法
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