低温氧化与超薄介质层的生长及应用

摘要

低温氧化技术是生长１０－３０■任一超薄介质层的关键工艺．本文着重介绍低温氧化生长超薄介质层的物理机理和工艺原理．从超薄介质层在ＭＩＳ（金属－绝缘层－半导体）太阳电池中的应用，可以看出它的存在和作用，也是对低温氧化技术的检验．