电沉积铜薄膜中的内应力与织构特征

摘要

利用X射线衍射方法分析了电沉积铜薄膜的内应力及其织构特征。结果表明,随薄膜厚度的增加,薄膜内应力增大。电沉积铜薄膜具有较强的(220)丝织构,随着铜薄膜内应力的增加,(220)丝织构增强,同时叠加有板织构的特征。