用相干刻蚀制作大面积的二维纳米阵列(英文)

摘要

采用多级激光扩束获得大面积的均匀光场分布,利用相干刻蚀(IL)技术,制作了大面积(3.23cm2)的二维(2D)周期阵列结构,如光栅和栅格,并以此阵列制备出空间周期为300nm的金属Ag、Au和磁性材料Ni的点阵结构。