机译:通过大面积干涉光刻和各向异性湿法刻蚀在Si(001)上进行纳米尺度二维构图
Univ New Mexico, Dept Elect & Comp Engn, Albuquerque, NM 87106 USA;
机译:通过结合纳米压印光刻和各向异性湿法刻蚀来进行亚50纳米结构图案化,而无需考虑原始模具分辨率
机译:用于纳米级特征图案的干涉光刻:激光干涉,van逝波干涉和表面等离子体激元干涉之间的比较分析
机译:高分辨率HSQ光致抗蚀剂的纳米级图案化,采用台式超紫外激光干涉光刻技术
机译:使用扫描探针光刻和各向异性湿法刻蚀在100硅片上制造超高密度纳米金字塔阵列(NPA)
机译:通过电光刻和电印刷光刻进行纳米级蛋白质图案化。
机译:球面光刻技术结合金属辅助化学刻蚀和各向异性化学刻蚀在Si(111)衬底上制造的三角形孔阵列
机译:通过扫描探针光刻和各向异性湿法刻蚀对(110)取向硅进行纳米加工
机译:用于亚100nm通道长度晶体管的X射线光刻技术,采用常规光刻,各向异性蚀刻和斜阴影制作的掩模