用荷能粒子镀光学薄膜

摘要

产生适合于光学薄膜沉积的荷能粒子镀膜技术多种多样。在一些很普通的能量粒子沉积工艺中,用辅助离子轰击生长薄膜,或者电离蒸气材料并且向衬底上加速轰击。离子辅助沉积(IAD)、离子束沉积(IBD)、电离原子团束沉积(ICBD)以及反应低压离子电镀(RLVIP)都属于这种工艺。镀膜材料可以从固态靶上高速发射,例如在离子束溅射(IB)中。这些工艺产生的每个沉积粒子的平均能量明显高于热蒸发或电子束蒸发的平均能量(仅0.1eV)。较高能量导致较高的表面迁移率,进而导致较高的生长膜密度,因为凝聚粒子能够填充所有或大部分可用表面空间。高能粒子(≥5eV)薄膜沉积的效果可与过渡液体膜相当。即使对于高熔点氧化物,当粒子平均等效温度超过镀膜材料的熔点时,这种方法同样适用。