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PⅢD技术制备Ti/DLC纳米多层薄膜

         

摘要

采用等离子体浸没离子注入与沉积(PⅢ&D)技术在2Cr13钢表面制备了Ti/DLC纳米多层薄膜.分析了膜层的微观结构和机械特性.实验结果表明:纳米多层膜具有完整、清晰的调制层结构,薄膜的显微硬度均得到明显的提高.硬度较低的膜层具有较好的膜基结合强度和优良的摩擦性能,从综合性能看:纳米多层薄膜保持了类金刚石(DLC)薄膜低摩擦系数的特性,具有良好的承载能力以及膜一基结合特性.

著录项

  • 来源
    《核技术》 |2009年第3期|233-236|共4页
  • 作者单位

    哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室,哈尔滨,150001;

    哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室,哈尔滨,150001;

    哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室,哈尔滨,150001;

    哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室,哈尔滨,150001;

    哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室,哈尔滨,150001;

    哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室,哈尔滨,150001;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 薄膜测量与分析;
  • 关键词

    等离子体浸没离子注入与沉积; 结合强度; 纳米多层薄膜;

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