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基于TCAD的氧化工艺参数影响分析

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摘要

随着集成电路工艺的不断发展,特征尺寸越来越小,工艺对器件参数的影响越来越明显.该文通过TCAD工具模拟集成电路氧化工艺的过程,然后分别改变氧化的工艺参数,分析氧化工艺参数对氧化结果的影响,进而在器件设计过程中合理地进行工艺优化.

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来源
《中国新技术新产品》 |2020年第11期|9-10|共2页
作者
张照锋; 董海青;
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作者单位

南京信息职业技术学院江苏南京210023;

南京信息职业技术学院江苏南京210023;

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正文语种 chi
中图分类腐蚀的控制与防护;
关键词
工艺; 器件; 仿真;

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