首页> 中文期刊> 《纳米科技 》 >双氧水和退火温度对WO_3薄膜光电化学性质的影响

双氧水和退火温度对WO_3薄膜光电化学性质的影响

             

摘要

以WO3粉体合成的W络合离子作为前驱液,超声喷雾热裂解法(USP)制备出WO_3薄膜,研究前驱液中H_2O_2添加量、薄膜沉积温度和薄膜退火温度对WO_3薄膜光电化学性能的影响,利用XRD、UV-vis和光电流光谱(IPCE)等对薄膜进行表征,实验结果表明,USP制备的WO_3薄膜为单斜相且沿(200)晶面优势生长;前驱液中双氧水量的增加导致WO_3薄膜禁带宽度(E_g)增加;薄膜的平带电位(Vfb)在-0.27~-0.05V之间(vs.SCE,pH=7),且掺杂浓度随退火温度升高而降低;在0.1M的Na_2SO_3溶液中,薄膜的IPCE随退火温度升高而降低,随H_2O_2量的减小IPCE增高。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号