真空渗碳技术及设备的发展

摘要

本文分析了当前真空渗碳技术的主要问题,认为对渗层碳量均匀性和碳黑的控制是目前真空渗碳技术发展中面临的主要问题。研制非碳质元件抗氧化真空渗碳炉能为解决这些问题提供新的途径。非碳质元件抗氧化真空渗碳炉兼有真空渗碳炉与控制气氛渗碳炉的特点,可以灵活地选用平衡渗碳和非平衡渗碳工艺。在平衡渗碳时可采用通常的碳势控制技术实现对表面碳量和碳黑的控制。对高合金工模具钢进行真空渗碳并直接进行真空淬火,对LD_1高强度模具钢等进行过度渗碳(CD渗碳)能充分发挥真空渗碳的优势。