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林滢; 薛虹;
中科院电工所微纳电加工研究院,北京,100080;
二次曲线单元图形; 中间图形; 数据格式; 电子束曝光;
机译:倍半硅氧烷抗蚀剂的电子束曝光机理的扫描X射线显微镜研究
机译:富勒烯衍生物电子束抗蚀剂的曝光机理
机译:ASDF:一种新的天文学数据格式
机译:使用TDS分析SOG电子束曝光机制
机译:中间红外线的超短互相关:一种新的支架检测方法。
机译:一种新的标准DNA损伤(SDD)数据格式
机译:通过振动光谱研究和原位电子束诱导解吸研究氢倍半硅氧烷的电子束曝光机制
机译:RsRE电子束数据格式的数据验证程序
机译:通过选择最适合用户数据格式的多种图形形式中的一种来制作图形的方法
机译:图形集合电子束描绘掩模,图形集合电子束描绘掩模制作方法以及图形集合电子束描绘装置
机译:将第一个图形程序转换为中间图形表示形式,以生成新的图形程序
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