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王娟; 刘玉岭; 檀柏梅; 李薇薇; 周建伟; 牛新环;
河北工业大学,微电子研究所,天津,300130;
蓝宝石; 化学机械抛光; 纳米硅溶胶;
机译:使用化学机械抛光技术研究超薄蓝宝石衬底上GaN外延层中的应力效应
机译:制备不规则二氧化硅纳米磨料,以在蓝宝石衬底上进行化学机械抛光
机译:一种新型螯合剂在R面蓝宝石衬底化学机械抛光中的作用
机译:基于C面蓝宝石衬底的ZnO掺杂SiO2磨料和化学机械抛光性能的制备
机译:互补金属氧化物半导体兼容器件的化学机械抛光和旋涂介电层间介电层的研究
机译:在c面蓝宝石衬底上通过CVD进行大面积单层MoS2纳米片的分散生长和激光诱导的波纹
机译:单晶硅和蓝宝石衬底化学机械抛光过程中化学反应层的形成机制
机译:m面蓝宝石衬底上的YBCO高温超导滤光片
机译:MOCVD系统在蓝宝石衬底上生长单晶藻类层的研究。
机译:在蓝宝石衬底上形成带有偏振片的投影仪
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