机译:制备不规则二氧化硅纳米磨料,以在蓝宝石衬底上进行化学机械抛光
Shanghai Univ Sch Mat Sci & Engn Shanghai 200444 Peoples R China;
Shanghai Univ Res Ctr Nano Sci & Technol Shanghai 200444 Peoples R China;
Shanghai Univ Inst Mat Sch Mat Sci & Engn Shanghai 200444 Peoples R China;
abrasion; chemical mechanical polishing; silicon compounds; X-ray photoelectron spectra; abrasives; surface roughness; sapphire; electrokinetic effects; nickel; nanostructured materials; nanofabrication; chemical reactions; irregular silica nanoabrasives; sapphire CMP process; chemical mechanical polishing behaviour; sapphire chemical mechanical polishing; high polishing rate; smooth surface quality; flat surface quality; nickel ion-induced effect; growth method; X-ray photoelectron spectroscopy; solid phase chemical reactions; contact model; zeta potential; SiO2-Al2O3;
机译:用聚合物模板制备不规则二氧化硅纳米粒子,用于蓝宝石基材的化学机械抛光
机译:铬离子/ PEG200诱导方法制备椭圆虫棒状二氧化硅纳米复合磨料,用于蓝宝石基材化学机械抛光方法
机译:镧离子诱导效应的非球形二氧化硅复合磨料及其在蓝宝石基材上的化学机械抛光性能
机译:大型胶体二氧化硅纳米磨料的超大规模生产中钨的化学机械抛光浆料
机译:蓝宝石化学机械抛光中用于杂化微粒的亚10纳米二氧化硅微粒的新特性
机译:化学机械抛光实施后化学机械抛光对钛植入物表面性质的影响FT-IR和钛植入物表面的润湿性数据
机译:Ag2O改性二氧化硅磨料的制备及其在蓝宝石上的化学机械抛光性能
机译:对于CaF sub 2的裸露抛光晶体和二氧化硅基板上的二氧化硅溶胶 - 凝胶aR涂层,使用350-Nm脉冲(25至100 Hz)测量阈值