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应用于扩散工艺中的闭管扩散技术

         

摘要

介绍了一种用于晶体硅太阳能电池p-n结制造的闭管扩散技术,它主要是针对目前使用的开管扩散技术的不足而提出的,实践证明,该技术不仅扩散均匀性优,而且节源、节能、环保,同时它还可以运用于其它半导体材料的扩散掺杂工艺.

著录项

  • 来源
    《微细加工技术》 |2006年第6期|63-64|共2页
  • 作者单位

    中国电子科技集团公司第四十八研究所,长沙,410111;

    中国电子科技集团公司第四十八研究所,长沙,410111;

    中国电子科技集团公司第四十八研究所,长沙,410111;

    中国电子科技集团公司第四十八研究所,长沙,410111;

    中国电子科技集团公司第四十八研究所,长沙,410111;

    中国电子科技集团公司第四十八研究所,长沙,410111;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 光刻、掩膜;
  • 关键词

    闭管扩散技术; 扩散均匀性;

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