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熊瑛; 刘刚; 田扬超;
中国科学技术大学,国家同步辐射实验室,合肥,230029;
纳米光栅; 热压印技术; PMMA;
机译:使用热纳米压印光刻技术制作具有纳米压印图案的金属滚子模具
机译:使用纳米压印光刻技术制作100 nm以下的线宽光栅图案
机译:具有NanoFrazor光刻技术制作的主模板的单纳米级精确3D纳米压印光刻技术
机译:使用热纳米压印光刻技术的纳米结构表面:在薄膜技术,压电能量收集和触觉压力感测中的应用。
机译:通过反向纳米压印技术制备的纳米光栅光子晶体中与角度相关的结构色
机译:利用热纳米压印光刻技术制作高Q微盘谐振器
机译:用于原子干涉测量的大面积独立式光栅使用全息光刻技术制作
机译:用于热纳米压印光刻的模具,其制造方法以及使用该模具的热纳米压印方法
机译:热纳米压印光刻模具,其制造方法以及使用该模具的热纳米压印工艺
机译:用于热纳米压印术的模具,用于制备相同方法的模具以及用于热纳米压印术的模具。
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