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ZnS薄膜的水浴法制备及其光学性能

     

摘要

以酒石酸和柠檬酸钠为络合剂,采用水浴法(CBD)制备ZnS薄膜.利用X射线衍射(XRD)、X射线能谱仪(EDAX)、扫描电镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV-vis)研究ZnS薄膜的结构、成分、形貌及光学性能.利用透射光谱计算了ZnS薄膜的光学禁带宽度.结果表明:ZnS薄膜呈立方相晶体结构,水浴沉积时间为3h的ZnS薄膜原子比Zn∶S为1∶0.85,薄膜表面均一致密,在可见光区有着好的透射性能,在300~800 nm的光谱范围内平均透射率达到80.8%,光学禁带宽度为3.78eV,适合作为太阳能电池过渡层.

著录项

  • 来源
    《材料导报》|2008年第2期|132-134|共3页
  • 作者

    崔占奎; 邹正光; 龙飞;

  • 作者单位

    桂林工学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室,桂林,541004;

    桂林工学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室,桂林,541004;

    桂林工学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室,桂林,541004;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 功能材料;
  • 关键词

    水浴法; ZnS; 薄膜; 光学性能;

  • 入库时间 2022-08-17 16:23:13

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