溶胶-凝胶法与磁控溅射法制备ZnO薄膜性能对比研究

摘要

分别采用溶胶-凝胶（Sol-gel）法和射频（RF）反应磁控溅射法在普通玻璃片上制备出ZnO薄膜，利用X射线衍射、扫描电子显微镜、分光光度计、台阶仪等检测手段分别对其进行了分析比较。结果表明：相同基底和退火温度下，RF磁控溅射法制备的ZnO薄膜具有更优异的晶化质量；在波长390-850nm范围内的透射率都在80％以上，薄膜的吸收长波限值分别约为375nm和390hm，计算出其禁带宽度分别为3．31eV和3．18eV。