紫外激光器增透膜的制备

摘要

依据薄膜光学的基本理论,选取Al2O3与MgF2作为薄膜材料,在JGS1基底上,采用离子源辅助沉积的真空镀膜方法,制备出工作波段在240nm～280nm间,具有高透射率大于99.5%的光学薄膜。通过调整工艺参数和膜系设计,改善了薄膜的激光损伤阈值。