晶片行星式研磨抛光机运动模拟的研究

摘要

针对单晶硅片高精度研磨抛光中存在的问题 ,从摩擦学理论出发 ,模拟了磨粒切痕方向、磨粒轨迹形态的变化过程 ,揭示了运动参数对研抛的表面质量、纹理方向、表面完整性的影响规律。