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夏永; 陈国美; 倪自丰; 王浩; 钱善华; 卞达; 赵永武;
江南大学机械工程学院 江苏无锡214122;
无锡商业职业技术学院机电技术学院 江苏无锡214153;
光助芬顿反应; 6H-SiC晶片; 羟基自由基; 化学机械抛光; 材料去除率;
机译:响应面法研究光芬顿反应对白葡萄酒理化参数的影响及其对曲霉毒素A含量的影响
机译:使用芬顿反应和光芬顿反应对亚甲基蓝进行非殖民化的比较效率
机译:中性pH条件下合成黄铁矿光助芬顿的机理
机译:锰取代对Fe_(3-X)MnXO4催化剂光催化活性的影响,异构光芬顿般的芬顿异源反应
机译:场效应对陶瓷反应性和场助反应烧结的影响
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机译:推进系统的进步使得可重复使用的液体反飞助器(LFBB)成为可能
机译:光芬顿氧化反应器脱除1,4-二恶烷的方法及光芬顿氧化脱除1,4-二恶烷的方法
机译:用光芬顿氧化反应器脱除1,4-二恶烷的方法及通过光芬顿氧化脱除1,4-二恶烷的方法
机译:用于化学机械抛光的芬顿试剂组合物,其使用方法以及用该试剂处理过的基材
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