对高纯度硅烷中气态杂质和金属杂质的纯化技术和分析方法

摘要

对高纯度硅烷中气态杂质和金属杂质的纯化技术和分析方法ＰａｔｒｉｃｋＡＴａｙｌｏｒ半导体制造商已经长期用硅烷制成硅的薄膜或者硅化合物。将来更高集成度的和更复杂的集成电路，以及如光生伏打电池等新器件，都要求硅烷有非常高的纯度，其规定杂质为１０－１２（ｐｐ...