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龙长林; 吴限; 陈国钦; 程文进;
中国电子科技集团公司第四十八研究所 湖南 长沙410205;
PECVD; SiO2薄膜; 喷淋板; 均匀性;
机译:PECVD生长的SiO2:Ge / SiO2多层膜中ge纳米晶体形成的TEM研究
机译:单步溶液流延法制备PVA / SiO2和PVA / SiO2 /戊二醛(GA)纳米复合膜的比较研究
机译:PECVD制备的界面Si和SiGe层对PECVD(200℃)和APCVD(1130℃)生长的外延Si膜的影响
机译:通过PECVD制备的a-C:H膜的均匀性改善
机译:用于超低介电常数层间电介质应用的含氟和碳的PECVD膜和类金刚石碳膜的研究。
机译:等离子体增强原子层沉积法制备硅衬底上Al2O3膜的均匀性和钝化研究
机译:制备牛肝示范和微量均匀性研究用电子原子吸收光谱法测定Cd E pb,采用电热原子法直接制备固体牛肝样品制备及微量均匀性研究固体取样电热原子测定Cd和pb吸收光谱法
机译:用于mEms应用的pECVD二氧化硅(siO2)层的反应离子蚀刻
机译:PECVD SiO2钝化IGZO和ZNO TFT的PECVD SiO2 IGZO ZNO TFT方法
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