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韩晓霞; 韩雁;
浙江大学微电子与光电子研究所,浙江杭州310027;
参数成品率; 聚焦误差; 光刻仿真; 版图优化; 工艺波动;
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机译:解决低温多晶硅TFT LCD映射后成品率问题的有效方法
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机译:用于各向异性蚀刻光刻的计算机辅助掩模版图合成。
机译:模块化结构如何简化网络上的任务:通过快速的本地社区检测对图形优化进行参数化
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机译:aNL(阿贡国家实验室)修订版图形指南
机译:在同步DRAM晶圆测试期间优化交流参数的方法和用于控制时序的电路,特别是提高封装的成品率
机译:形成多晶硅图形的方法,具有多晶硅图形的二极管,具有多晶硅图形的多层交叉点电阻存储器件以及制造该二极管和存储器件的方法
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