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赵丽霞; 张鹤鸣; 宣荣喜; 胡辉勇;
西安电子科技大学宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室;
陕西西安710071;
应变Si1-xGex; 电子; 散射;
机译:基于物理模型的应变Si1-xGex /(100)Si中的空穴散射率
机译:热激发的Si1-xGex / Si(100)异质结构中具有不同缓冲层的失配应变的弛豫
机译:Si +离子注入后拟晶Si1-xGex / Si(100)异质结构的应变弛豫
机译:应变Si / Si1-Xgex的电子散射模型(100)
机译:含稀土镁合金板,ZEK100的机械响应,纹理演化和骨折,不同的应变率和温度:实验和建模
机译:通过吡啶的电子散射完整的横截面数据设置:在0-100eV中建模电子传输
机译:环形暗场图像中(100)Si上Si1-xGex(x = 0.20)和Si1-yCy(y <0.015)外延应变膜的成分和应变对比
机译:si1-xGex / si和si / Ge应变层超晶格的光致发光研究
机译:用应变松弛的Si1-xGex层抛光半导体晶片的方法
机译:具有几何形状和纳米光学特性的应变松弛Si1-XGeX层的半导体晶片的抛光方法
机译:带有应变松弛的SI1-XGEX层的半导体晶片的抛光方法
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